Физические размеры фокуса электронной линзы

Я интересуюсь темой литографов для создания процессов, и основной физической частью там является линза и источник излучения, т.к. основная задача любого литографа фактически создать разрез в материале как можно меньшего размера, чтобы туда поместить как можно большее количество электронных компонентов.
И у меня возник вопрос: отличаются ли физические размеры фокуса линзы собирающей (имею ввиду точку сбора всех электронов) и основная оптическая ось рассеивающей линзы (по ширине).
Что я имею ввиду: представим, что из электронной пушки стреляют в вакууме и задача создать электронный луч, шириной ровно с размер самого электрона.
(Моё личное мнение): Проведу аналогию с оптикой. Если при помощи кольца электромагнитов, поставленных перпендикулярно лучу и направленных "-" к ним, то в процессе подлета электроны будут смещаться под воздействием электромагнитов, а значит будут иметь горизонтальный импульс, направленный к центру луча, и в «фокус электромагнитной линзы» они не будут падать ровно, а со смещением. Но если в электромагнитах поменять полярности так, чтобы они притягивали электроны, то большая часть электронов отлетит, кроме электронов на «оптической оси» т.к. на них будет равномерно воздействовать сила электромагнита на горизонтальной проекции, и тем самым можно создать луч шириной с электрон, все будет зависеть только от напряжения установки, которое чем больше, тем больше «отклонившихся» электронов она к себе притянет, тем самым уменьшая ширину луча.
Спасибо за понимание и терпение, раз вы это прочитали).

#58573 Maksord :Я интересуюсь темой литографов для создания процессов, и основной физической частью там является линза и источник излучения, т.к. основная задача любого литографа фактически создать разрез в материале как можно меньшего размера, чтобы туда поместить как можно большее количество электронных компонентов.
И у меня возник вопрос: отличаются ли физические размеры фокуса линзы собирающей (имею ввиду точку сбора всех электронов) и основная оптическая ось рассеивающей линзы (по ширине).
Что я имею ввиду: представим, что из электронной пушки стреляют в вакууме и задача создать электронный луч, шириной ровно с размер самого электрона.
(Моё личное мнение): Проведу аналогию с оптикой. Если при помощи кольца электромагнитов, поставленных перпендикулярно лучу и направленных "-" к ним, то в процессе подлета электроны будут смещаться под воздействием электромагнитов, а значит будут иметь горизонтальный импульс, направленный к центру луча, и в «фокус электромагнитной линзы» они не будут падать ровно, а со смещением. Но если в электромагнитах поменять полярности так, чтобы они притягивали электроны, то большая часть электронов отлетит, кроме электронов на «оптической оси» т.к. на них будет равномерно воздействовать сила электромагнита на горизонтальной проекции, и тем самым можно создать луч шириной с электрон, все будет зависеть только от напряжения установки, которое чем больше, тем больше «отклонившихся» электронов она к себе притянет, тем самым уменьшая ширину луча.
Спасибо за понимание и терпение, раз вы это прочитали).
Прочитал полностью и не раз. Попытался представить эту модель и возникли некоторые вопросы. А не получится ли так что это будет уже не луч, а одинокие электроны, причем летящие невпопад, сейчас сразу 10, а следующую секунду ни одного, а следующую 4 и ТД? Управлять таким лучом, мне кажется будет затруднительно.