Плотность тока для плоского магнетрона

Уважаемые форумчане!

Сразу извиняюсь за мою не компетентность в данном вопросе.

Мне необходима Ваша консультация. Суть проблемы в следующем.

Имеется плоский магнетрон, с помощью которого происходит распыление покрытий в вакууме.

Мне для моих расчетов очень необходимо связать такие величины как плотность тока и напряжения тока разряда на магнетроне.

Я произвел достаточно большой литературный обзор по этой теме, однако у меня имеются сомнения по поводу выбранного мной решения.

В книге В.А. Батушев Электронные приборы 1969, я нашел ссылку на закон степени трех вторых. Еще этот закон называют законом Чайлда – Ленгмюра – Богуславского.

В книге есть формула для расчета тока на плоском аноде:

Ia=2,33×〖10〗^(-6) 〖S∙U〗^(3/2)/x^2

S-площадь магнетрона (анода)

U-напряжение тока разряда

x-расстояние между магнетроном и подложкой

В книге эта формула приводится для расчета тока анода.

Можно ли эту формулу использовать для расчета плотности тока на магнетроне?

В классическом варианте плотность тока - это величина равная отношению силы тока к площади. Поэтому я решил для своих расчетов использовать эту формулу.

Если не так поправьте меня.